突破！國產光刻膠又一重磅利好 配方全自主設計

光刻膠產業化再度傳出利好。

據東湖國家自主創新示范區官網今日（10月15日）消息，近日武漢太紫微光電科技有限公司（下稱“太紫微公司”）推出的T150 A-光刻膠產品，已通過半導體工藝量產驗證，實現配方全自主設計。

該產品“對標國際頭部企業主流KrF光刻膠系列。相較于國外同系列產品UV1610，T150 A在光刻工藝中表現出的極限分辨率達120nm，且工藝寬容度更大，穩定性更高，堅膜后烘留膜率優秀，其對后道刻蝕工藝表現更為友好，通過驗證發現T150 A中密集圖形經過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現優異”。

有業內人士稱，太紫微光稱其產品已通過半導體工藝量產驗證，并實現配方全自主設計，但最終成效還是要看市場與客戶的反饋。據介紹，光刻膠產品在客戶端驗證周期通常需要2年。

太紫微公司團隊來源

據悉，太紫微公司由華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊創立。該團隊立足于關鍵光刻膠底層技術研發，在電子化學品領域深耕二十余載。武漢光電國家研究中心是科技部于2017年批準建設的第一批，也是唯一的一批6個國家研究中心之一，其前身為2003年獲批的武漢光電國家實驗室（籌）。
值得注意的是，天眼查信息顯示，太紫微公司成立于2024年5月31日，注冊資本200萬元，實控人為朱明強，最終受益股份77%。
除了朱明強本人外，太紫微公司的另外兩家股東，湖北高碳光電科技有限公司、武漢市馬斯洛普管理咨詢合伙企業，朱明強則分別持股100%和8%。
據公開信息顯示，朱明強為華中科技大學武漢光電國家研究中心二級教授，光學與電子信息學院雙聘教授。主要研究領域為有機及納米光電子學，研究方向包括集中于光刻制造、有機納米光電子學和超分辨率成像。

光刻膠產業鏈有哪些?

光刻膠產業鏈涵蓋了從上游原材料生產到下游應用領域的多個環節。
上游環節主要依托基礎化工原料，生產樹脂、光引發劑、溶劑、單體等電子化學品，這些原材料的質量和性能對光刻膠的最終品質有著直接影響。樹脂作為光刻膠的主要成膜物質，對光刻膠性能有重要影響，起到支撐作用，使其具有耐刻蝕性能；光引發劑是光刻膠中的光敏成分，能發生光化學反應；單體則參與光固化反應，降低體系黏度，調節材料性能；溶劑則賦予光刻膠流動性，便于涂布。
中游環節為光刻膠成品制造，包括PCB光刻膠、面板光刻膠和半導體光刻膠等，制造商需具備性能評價、嚴格生產管理、潔凈生產、微量分析等關鍵技術，以確保產品質量和穩定性。
下游環節則涉及印刷電路板、顯示面板和電子芯片等應用領域，這些產品廣泛應用于消費電子、航空航天、軍工等領域。
整體而言，光刻膠產業鏈技術壁壘、專利壁壘、資本壁壘較高，客戶粘性大，上游原材料供應深度綁定。但近年來，隨著相關產業向東轉移，國內光刻膠需求快速增長，相關企業也在積極突破，努力實現國產替代。數據顯示，其中KrF、ArF光刻膠對外依賴最為嚴重，國產化率均僅在1%水平。
西部證券指出，我國半導體光刻膠市場超90%主要依賴進口，本土廠商雖起步較晚，但目前處于國產化加速期。
據芯傳感了解，光刻膠技術核心在于配方，它決定了光刻膠的性能和應用。同時，質量控制技術確保產品穩定可靠。高純度、高穩定性的原材料是基礎，光活性物質決定感光度與分辨率，感光樹脂影響硬度、柔韌性和附著力，而溶劑則使光刻膠便于涂布加工。
這些要點共同構成了光刻膠技術的精髓，使其能夠滿足不同領域的高精度需求。