HID Global和Omni-ID達成專利糾紛協議

　　HID Global宣布，與Omni-ID公司達成了一個秘密協議，針對Omni-ID公司起訴HID Global某些產品專利侵權的訴訟已友好解決。HID Global將繼續在美國和世界各地生產和銷售全系列的RFID產品，包括超高頻(UHF)金屬標簽，HID Global現在享有該專利的許可使用權。

　　該訴訟是在2014年由Omni-ID向美國地區法院提起。在訴訟中，Omni-ID公司聲稱，該公司率先推出并實現了一個標簽系統，減少標簽隔離表面對射頻識別器發出信號的破壞，該公司的專利是采用一種最小厚度的解耦器，捕獲讀寫器發出的無線電波，減少液體和金屬表面等不利影響。Omni-ID聲稱，HID的Ultra RFID標簽InLine侵犯了該專利設計。

　　HID Global識別技術部門的副總裁Marc Bielmann，在一份準備好的聲明中表示：“HID Global對和Omni-ID公司達成的該專利的解決方案很滿意。通過這個決議，HID Global將能夠繼續擴大其UHF產品范圍，而不會損害客戶的利益。”

　　Omni-ID公司的首席執行官George E. Daddis, Jr.表示，“Omni-ID公司的目標是推動RFID技術在工業物聯網(IoT)中實現核心價值，并推動該技術在全球的使用，該協議標志著我們朝著這個方向又邁進了一步。”

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